陶氏推出线路板的金属化及影像转移用新品

    【慧聪化工网】中国台湾消息，，2009年10月27日，陶氏电子材料日前在TPCA展会及IMPACT论坛推出了应用于印刷线路板(PCB)的金属化及影像转移工艺的新产品。这些新产品可为PCB产业带来高性能、环保和成本效益高的解决方案，以响应目前消费性电子产品领域更轻巧、更环保、性能更佳、更具价格竞争力的发展趋势。

    PCB电镀铜—MICROFILL EVF填孔技术可以提高镀铜能力，使表面厚度较薄，并可同时进行通孔镀铜。这种技术既适用于高密度互连(HDI)线路板，也适用于集成电路(IC)封装载板。该公司顷于IMPACT论坛获颁此一领域之杰出论文奖。COOPERGLEAM HV-101和HVS-202酸性镀铜提供高电镀效率，可提升垂直连续式镀铜线的产能，并降低镀铜成本。COPPERGLEAM MV-100酸性镀铜在垂直连续式镀铜设备上显示出异常优异的电镀均匀度和性能表现，可大幅减少电镀时间。

    PCB通孔金属化—CIRCUPOSIT 3350-1化学沉铜应用于MLB（多层线路板）和HDI，它具有优异的化学沉铜覆盖力和可靠性，工艺稳定，并可减低化学品之使用量和废液产生量。CIRCUPOSIT 7800半加成工艺除胶渣产品可提供均匀稳定的高结合力的处理程序以及清洁可靠的盲孔底部。此外，它具有高抗撕强度、高可靠性、并可助后续化学沉铜达到优异的覆盖力。先进膨松剂产品(AdvancedSweller)为低浓度、低毒性溶剂，可为普通和高性能板材提供成本效益高、操作范围宽的除胶渣工艺解决方案。CIRCUPOSIT 3323A整孔剂是应用于通孔电镀工艺的可生物分解的整孔剂，其优异的覆盖力和较低的表面张力提供优异的性能和可靠性。

    PCB表面处理—PALLAMERSE SMT2000化学沉镍在化学镍钯金(ENEPIG)工艺中为零件组装提供稳定镀层与高焊点可靠性的表面处理。低金化学沉金产品(LowGoldImmersionGold)可以在化学镍金工艺(ENIG)中提供极低的金盐浓度，大量节省金盐损耗，同时维持均匀的金层厚度分布和可靠的可焊性。

    PCB影像转移—EAGLE 2100光阻剂是最新的立体负型电着光阻，适用于多种板材尺寸和立体几何形状，可提供均匀、无缺陷的镀层和优异的分辨率。

    新近研发的新产品包括先进半加成工艺金属化产品以及CIRCUPOSIT 71全化学沉铜产品，预计在明年上市。

    “陶氏电子材料的优势在于与业界领先的客户密切合作来研发新一代的材料”，陶氏电子材料的全球总经理BobFerguson先生说，“作为金属化技术的领导者，我们很高兴地向PCB产业介绍我们高性能、低成本和环保的解决方案。陶氏电子材料拥有尖端的技术、优秀的顾客服务、强有力的技术支持和全球化的布局，我们一直致力于为日新月异的电子世界提供可持续发展的技术”，他说。    

    关于陶氏

    陶氏是一家多元的化学公司，运用科学、技术以及“人元素”的力量不断改进推动人类进步的基本要素。

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